オゾンガス発生装置 H series
高濃度なＨシリーズ
業界トップクラスの超高濃度オゾンを発生。
窒素無添加オゾンガス発生装置Hシリーズは高濃度オゾンの強い酸化力を活かし、主に金属酸化膜の成膜工程に採用されています。
高性能半導体の品質向上に貢献する、世界的なベストセラー機です。
窒素添加レス方式で業界トップクラスの超高濃度のオゾンガスを発生。
・主な用途…半導体製造プロセス 他
仕様
窒素なしで、超高濃度オゾン350g／㎥(N)を発生。お客様の用途に合わせ、小流量から大流量まで4機種をラインアップ。
オゾンガス発生特性
（お客様の求める濃度にマッチする機種をお選び下さい）
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