KTCの最先端技術
オゾンガス発生装置
最先端デバイスの酸化プロセスに必要な
超高濃度のオゾンガスを、
酸化膜の品質低下の原因となる「窒素」を
全く使わないで発生する装置。
半導体などの製造プロセスの
イノベーションを実現しています。
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超音波接合装置
独自の超音波接合技術を応用した
ハンダやペーストを用いない
新しい接合技術を開発しています。
太陽電池やデバイス等に熱ダメージのない
常温接合が可能な自動配線装置を
製品化しました。
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ミスト成膜装置
金属元素を含む原料溶液をミスト化して
基板上に供給する独自のミスト堆積法により、
低温かつ非真空で成膜を実現しています。
太陽電池やデバイス等に対する
熱ダメージを軽減し、発電効率の向上や
製造コストの削減に寄与しています。
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